產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
VE-2013 是一種簡化的真空沉積系統(tǒng)，繼承了 VE-2030（由我們公司制造）的概念。 緊湊的外殼，外殼中內(nèi)置 TMP。 由于它是桌面類型，因此不會占用太多空間。 RP 是落地式安裝的。
詳情介紹：
緊湊的TMP+RP排氣系統(tǒng)以低廉的價格提供清潔的高真空氣相沉積系統(tǒng)。 消除了復(fù)雜的排氣操作，它是一種全自動控制，只需打開/關(guān)閉觸摸面板開關(guān)。
通過使用鎢籃，可以氣相沉積金、鋁、鉻、銀等。 對于碳沉積，使用夾式沉積槍類型使用特殊碳（SLC-30）沉積碳。 （不能使用φ5mm碳棒。 ）
在購買時，我們將選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極。 或者，可以購買額外的電極。
碳氣相沉積電極
這是一種
專用的碳氣相沉積電極。
它可以在高真空區(qū)域進行碳沉積，并且可以進行具有優(yōu)異的薄膜質(zhì)量和薄膜強度的碳沉積。
隨附的防污罩將碳氣相沉積的散射范圍降至*低，并減輕了清潔負擔(dān)。
碳氣相沉積源是專用碳（SLC-30）。
這是一種專用的碳氣相沉積電極。
它可以在高真空區(qū)域進行碳沉積，并且可以進行具有優(yōu)異的薄膜質(zhì)量和薄膜強度的碳沉積。
隨附的防污罩將碳氣相沉積的散射范圍降至*低，并減輕了清潔負擔(dān)。
碳氣相沉積源是專用碳（SLC-30）。
金屬氣相沉積電極 這是一種用于φ0.5mm鎢籃的
金屬氣相沉積電極
。
金、鋁、鉻等的氣相沉積可以輕松自如地進行。 隨附的防污蓋*大限度地減少了沉積范圍并減輕了清潔負擔(dān)。
金屬氣相沉積電極
。金、鋁、鉻等的氣相沉積可以輕松自如地進行。 隨附的防污蓋*大限度地減少了沉積范圍并減輕了清潔負擔(dān)。
主要產(chǎn)品規(guī)格
| 項目 | 規(guī)范 |
| 權(quán)力 | AC100V（單相100V15A） |
| 設(shè)備大小 |
寬 428 mm，深 430 mm，高 550 mm （設(shè)備重量 38 kg） |
| 旋轉(zhuǎn)泵（外部） |
抽速：50l/min（G-50DA）（ 重量：11kg） |
| 渦輪泵（內(nèi)置裝置） | 抽速：67升/秒 |
| 樣品臺 | 直徑 72mm |
| 沉積源-樣品表間距 | 可調(diào)范圍：0mm~140mm |
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