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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
用于光刻工藝的簡單曝光和印刷設(shè)備
臺式/一體式節(jié)省空間
配備微電腦，**控制照射時間
詳情介紹：
| 產(chǎn)品名稱 | 紫外線曝光設(shè)備 |
|---|---|
| 模型 | UVL-2 |
| 光源 | 超高壓汞燈 |
| 輻照度 [mW/?] | 20 |
| 光通量 | 100 x 100（有效80 x 80）*非平行光線 |
| 照度不均[±%] | 8 |
| 接觸時間 | 0.5 - 99.9 |
| 樣品臺 | 固定式/帶平面微調(diào)機構(gòu) |
| 樣品尺寸 [毫米 x 毫米] | 100×100 |
| 面罩尺寸 [毫米 x 毫米] | 70x70 |
| 樣品固定 | 塞子抵接方法 |
| 通訊接口 | RS-232C |
| 電源電壓 | 交流100V 50/60Hz |
| 功耗 [VA] | 700 |
| 操作環(huán)境 |
?溫度：5 - 35[℃] ?濕度：80[%]以下，但無結(jié)露 |
| 尺寸（寬x高x深）[毫米] | 350×790×350 |
| 重量[公斤] | 30 |
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