產品詳情
簡單介紹：
牛尾長年開發(fā)經驗，集光源?光學技術，采用獨自的大面積投影鏡頭技術研發(fā)的背投式對準光刻設備。
到8英寸為止的晶片可在非接觸下模式下也可以一起對準光刻曝光。
適用于深度焦點非平面晶片，實現接近式曝光為數不多的高生產性、高成品率。
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