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SHINKUU日本真空設(shè)備 濺射設(shè)備通用型 該裝置用于在電子顯微鏡樣品上涂覆貴金屬薄膜并進行導(dǎo)電處理。 它易于操作，無需復(fù)雜的操作程序，并配備了一個 4 英寸的目標(biāo)，甚至可以在大樣品上涂覆。 查看詳情
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SHINKUU日本真空設(shè)備靶材濺射涂層設(shè)備 該裝置是帶有磁控管目標(biāo)的金屬涂層裝置。 它用于用光學(xué)顯微鏡觀察透明材料的表面（銀靶）或用電子顯微鏡處理少量導(dǎo)電膜（金/銀靶）的樣品。 查看詳情
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SHINKUU日本真空設(shè)備 涂覆貴金屬薄膜 SEM觀察樣品的傳導(dǎo)處理。 為FIB制作保護膜。 用于元素分析的傳導(dǎo)處理。 此外，它還用于廣泛的用途，例如電極制造和抗氧化膜。 查看詳情
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SHINKUU真空設(shè)備 金屬面涂金屬導(dǎo)電膜 該裝置用于在電子顯微鏡樣品上涂上一層薄金屬膜并進行導(dǎo)電處理。 它具有不需要復(fù)雜操作程序的可操作性。 鎢主要用作靶材，還有許多其他特殊金屬可以涂覆。 該電極采用風(fēng)冷磁控管方法，可在低電壓下涂覆特殊金屬。 （這是因為氣體中所含的電子會移動磁控管，大大提高了電離效率。 它有助于顯著減少樣品損壞。 查看詳情
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SHINKUU日本真空設(shè)備 磁控濺射沉積設(shè)備 該器件是一種多用途、易于操作的磁控濺射沉積系統(tǒng)。 它是一種小型桌面式和小空間設(shè)備，可以使用強磁場形成各種金屬的薄膜。 查看詳情
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SHINKUU日本真空設(shè)備 鋨涂層裝置 用于SEM和TEM的鋨涂層設(shè)備。 由于粒徑細小且周轉(zhuǎn)性好，因此適用于高倍率觀察應(yīng)用和形狀復(fù)雜的樣品。 超薄的Os導(dǎo)電涂層還用于EBSD、俄歇和X射線分析。 查看詳情
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SHINKUU日本真空設(shè)備 鋨涂層裝置 該裝置是一種用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。 使用空心陰極樣品架進行低壓放電涂層，因此對樣品幾乎沒有損壞。 由于在空心陰極中產(chǎn)生均勻的高密度等離子體，因此無論樣品的高度或材料如何，在放置在圓柱體中的樣品表面都會形成厚度均勻的Os膜。 由于只有必要量的鋨氣體被注入空心陰極，因此消耗量很低，未反應(yīng)的氣體被吸附并用活性炭捕集器去除，以抑制有害氣體釋放到大氣中。 查看詳情
