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SHINKUU真空設備碳沉積設備 該設備使用旋轉泵進行碳沉積，同時使用 Pirany 真空計監(jiān)測真空度。 通過不斷蒸發(fā)一定量的碳，可以實現(xiàn)高度可重復的碳沉積。 請使用專用的 SLC-30 替換芯作為碳源。 查看詳情
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SHINKUU真空設備清潔高真空沉積系統(tǒng) 樣品制備的下一步從清潔的高真空開始。 這是一種使用渦輪分子泵 （TMP） 排氣系統(tǒng)的清潔高真空沉積系統(tǒng)。 高真空有助于提高薄膜純度和密度。 如果按下觸摸面板上的 EVAC START 按鈕，系統(tǒng)會自動執(zhí)行從預排氣到高真空排氣的狀態(tài)。 它是一種**設計，可通過觸摸屏+程序控制防止操作錯誤。 查看詳情
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SHINKUU真空設備型臺式高真空沉積系統(tǒng) VE-2013 是一種簡化的真空沉積系統(tǒng)，繼承了 VE-2030（由我們公司制造）的概念。 緊湊的外殼，外殼中內(nèi)置 TMP。 由于它是桌面類型，因此不會占用太多空間。 RP 是落地式安裝的。 查看詳情
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SHINKUU真空設備磁控降低污染物附著力 該設備將 TEM 支架存放在無油真空下。 通過使用該設備，可以顯著降低污染物的附著力。 它存放在單獨的真空室中，可以單獨進出。 TEM 支架端口是根據(jù)您使用的 TEM 支架制造的。 查看詳情
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SHINKUU真空設備自動涂裝功能凱焊機 配備大面積樣品臺，支持12英寸晶圓。 磁控管系統(tǒng)用于減少涂層電壓為500V或更低時的離子損傷。 自動涂裝功能從脫氣到常壓氣體引入和涂裝都是全自動的。 它配備了一個向前滑動的樣品臺，便于裝卸樣品。 通過附著Ag靶材，可以很容易地對透明薄膜進行光澤處理。 查看詳情
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SHINKUU真空設備自動涂裝功能凱焊機 配備大面積樣品臺，支持12英寸晶圓。 磁控管系統(tǒng)用于減少涂層電壓為500V或更低時的離子損傷。 自動涂裝功能從脫氣到常壓氣體引入和涂裝都是全自動的。 它配備了一個向前滑動的樣品臺，便于裝卸樣品。 通過附著Ag靶材，可以很容易地對透明薄膜進行光澤處理。 查看詳情
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SHINKUU日本真空設備鉑金屬涂層裝置 該裝置是帶有磁控管目標的金屬涂層裝置。 它用于 8 英寸晶圓等大面積樣品和大量樣品的同步處理。 MSP-8in的目標電極沿目標金屬表面形成多同心磁場，通過將電子捕獲在該磁場中，提高等離子體離子密度以濺射目標金屬。 磁場的強度結構使得粘附的金屬膜的厚度從目標的中心到外圍是均勻的。 查看詳情
